相反，从最私心的角度来讲。

他可能是整个光机所，最希望林决能在此途成功的人了......

因为就算冯宴教授回国。

可能在材料方面的进步，前进也是有限的。

但林决呢......

说罢，两人紧紧握手。

恍惚间，谷方绪好像产生一种，新老时代交替的错觉。

“好了谷教授，我先回去了，你们忙吧。”

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林决转头看了谷方绪一眼，继续问。

“目前核心短板是初期污染控制，团簇均匀分散，RLS协同控制。”

林决点了点头，找到相关的工程日志看了看。

说话间，林决已经快速阅览好几个文件。

“好的，具体情况我下来再看看。”

林决说着，将文件拿起放在腋下，然后伸出手，

在谷方绪印象中，他总创造一些让人为之惊叹的奇迹！

冯教授能够保证下限。

但林决，却让人觉得上限能够无限拔高......

给我证明吧林决，这是你的时代！

.............

然后便发现。

很多试样曝光时，锡挥发会产生严重超标。

这样的情况出现后，会持续污染上游多层反射镜和PelliCle保护膜。

但如果将这种情况控制住，材料灵敏度和粗糙度又会同时变差。

属于是一根筋两头堵的难点。

“谢了谷教授，希望我们能共同进步，将这个难关彻底突破！”

谷方绪看了看眼前这个少年还略显稚嫩，但却充满了自信的脸庞，心中不禁泛起些许涟漪。

“那好！共同进步！”

但看着那个背影，他却没由来感觉，自己老项目组，很可能会被对方当减速带碾压过去的错觉......

不过......

即使有这种感觉，但谷方绪对林决却并未有厌恶之感。

“好的。”

看着林决离去的背影，谷方绪在原地驻足良久。

说实话，谷方绪搞科研这么多年以来，其实早就不怎么吃压力了。

第359章 林决：不用适应，现在我手里已经有个方案了 (第1/3页)

谷方绪微微叹气，

“是的。”

“具体问题呢？”

见状，谷方绪继续说道，

“除此之外，上游高产有机配体，底层反射层整套配套链条也不完善......

我们毕竟缺少真实EUV整机长期的工况验证平台，所以目前只能做短时间模拟曝光，难以验证晶圆连续晶圆体连续加工稳定性......”

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