听到林决的话，在场众人立马来了精神。

因为林决所说的光源，差不多可以说是是关于自研光刻机的“心脏”问题了！！

当然了......

这在国内自主研发中，并非一个从零开始的工程，而是已经有一定积累了。

在京城光机所的EUV实验室，现在便具有从关键零部件到锡滴板等核心单元的技术。

“可以。”

林决点了点头，并没有丝毫意外。

紧接着，其余各个岗位也开始跟进汇报。

光学组这边也没闲着，一直在对林氏函子光学变式，零偏映射装入整机的方案，进行着不断的改进和测试。

林决打开门走进实验室，那股熟悉的臭氧味瞬间迎面而来。

皱着眉适应了好一会儿，陈望山才笑呵呵道，

“好了，大家先停一下！我们开个短会。”

林决到拍了拍手，然后把众人叫到办公室。

“老师，先具体说说最近一周的情况。”

不过即使如此。

它依旧存在一个源头性的根源问题

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“我还以为在交流会结束后，你还得跟那些数学机构应酬呢。”

林决笑道，

“老师我可没那个精力，让学校去管吧，还是实验室待着不烧心......”

正在调试光路的蒋墨闻言后也不回道，

“这话我爱听！得劲儿！”

陈望山点了点头，

“首先，零偏映射方案电路优化调试达到最优水准，还是延续之前的结果，进入整机后，本周内只报错一次，其余时间全部通过。”

“这个成绩极其亮眼，已经达到装机水平了。”

“多层膜误差的工作，基本可以进行收尾了.......”

说着，林决呼出一口气，

“那么按照计划.......接下来，就是搞定EUV光源的源头问题！”

约莫十五分钟后。

陈望山基本将本周光学组进度完全告知后，林决满意点了点头，

“ ......目前看来，我们进度非常完美！”

第386章 光源打靶问题，改写微观曝光物理规则！ (第1/3页)

在看了材料组的情况之后。

林决又来到EUV光学平台总实验室内。

在新材料的研发过程中。

在场众人闻言，不禁都是都是笑了出来。

大家能来参与这个项目，目的都挺纯粹的！

那便是搞出一台完全自主研发，达到国际一流水平的光刻机！

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