紧接着，其他人也是开口。

“我们哪有什么想法，林教授您带头就行！”

“反正我们想再多，也是不如您的......”

“就是就是......”

一时间，现场的氛围无比欢快。

闻言，众人你看我我看你。

过了好半晌，蒋默才开口道，

“你说就行，我们照做，短时间想这种方案，这不是难为我们这群老头子吗？”

让每秒数万甚至数十万级的微小锡滴液。

在大小，速度，间距上保持一致的同时，又得让驱动激光以微米级精度，纳米级时序逐颗命中！

这个命中效率......

但在光源不断传播中，动态误差和静态误差几乎都是呈指数级上升，偏差越来越大！

也是因此......

最后光源将锡滴液打到硅板上的光路成像质量，那画面......便属实惨不忍睹......

他们倒是并没拍林决马屁，说的全是肺腑之言啊。

林教授才来光机所多久！？

就把之前卡了许久的光刻胶材料和多层膜问题搞定

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直接决定光源到EUV系统中的转和效率，功率上限，以及长期运行稳定寿命......

只有这个环节实现成功。

光刻机中的“刻”这个环节，才算真正跑通了。

而在这之前，解决光刻胶，还有解决多层膜误差问题，在本质上来说......便是解决【精准打靶】的前置条件！

而在目前......

不过这一次。

林决倒是并未立马提出自己的想法，而是先问了问大家，

“嗯......大家有没有什么好的方案？”

“你就说你有没有吧！”

房怀年乐邦摊手，“好吧我承认......我也是。”

陈望山哭笑不得，这些老友脸皮还真是厚啊。

闻言，房怀年笑了出来，

“哈哈哈，路径依赖了啊这是。”

蒋默翻来个白眼，

第386章 光源打靶问题，改写微观曝光物理规则！ (第2/3页)

，即——

【高重频下，锡滴靶的稳定生成与精准打靶】。

其核心原理是：

这个方向，也是自主研发中光源系统最弱势的。

因为落到完全光源系统中的时候，目前无法解决激光打靶中微偏移，热变形，气流扰动，落点的积累误差......

虽然在单一节点光机所还能稍微控制一下。

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